Фоторефракцијски ефекат је основа холографских оптичких апликација, али доноси проблеме и другим оптичким апликацијама, па је побољшању фоторефрактивне отпорности кристала литијум ниобата посвећена велика пажња, међу којима је регулација допинга најважнији метод.За разлику од фоторефрактивног допинга, антифоторефрактивни допинг користи елементе са непроменљивим валентом за смањење фоторефрактивног центра.Године 1980. објављено је да се фоторефрактивна отпорност ЛН кристала са високим односом допираног Мг повећава за више од 2 реда величине, што је привукло велику пажњу.1990. истраживачи су открили да ЛН допиран цинком има високу фоторефрактивну отпорност сличну ЛН допираној магнезијумом.Неколико година касније, откривено је да ЛН допиране скандијумом и индију имају фоторефрактивну отпорност.

2000. године, Ксу ет ал.открио то високооднос Mг-допиранаLNкристал са високим фоторефрактивним отпором у видљивој траци хаsодличне фоторефрактивне перформансе у УВ опсегу.Ово откриће пробило је разумевање отхефоторефрактивна отпорностLNкристал, а такође је испунио празнину фоторефрактивних материјала примењених у ултраљубичастом појасу.Краћа таласна дужина значи да величина холографске решетке може бити мања и финија, и може се динамички брисати и уписивати у решетку ултраљубичастом светлошћу, и читати црвеним и зеленим светлом, како би се реализовала примена динамичке холографске оптике .Ламаркуе ет ал.усвојио високуоднос Мг-допиранаLN кристал који је обезбедио Универзитет Нанкаи као УВ фоторефрактивниматеријали реализовано програмабилно дводимензионално ласерско обележавање коришћењем двоталасног спрегнутог појачања светлости.

У раној фази, анти-фоторефрактивни допинг елементи су укључивали двовалентне и тровалентне елементе као што су магнезијум, цинк, индијум и скандијум.Године 2009. Конг ет ал.развио антифоторефрактивни допинг коришћењем тетрaвалентних елемената као што су хафнијум, цирконијум и калај.Када се постигне иста фоторефрактивна отпорност, у поређењу са двовалентним и тровалентним допираним елементима, количина допинга тетрадвалентних елемената је мања, на пример, 4,0 мол% хафнијума и 6,0 мол% допираног магнезијумаLNкристали имају сimиларфоторефрактивна отпорност,2.0 мол% цирконијума и 6.5 мол% допираног магнезијумомLNкристали имају сimиларфоторефрактивна отпорност.Штавише, коефицијент сегрегације хафнијума, цирконијума и калаја у литијум ниобату је ближи 1, што је повољније за припрему висококвалитетних кристала.

Висококвалитетни ЛН који је развио ВИСОПТИЦ [ввв.висоптиц.цом]